【英特尔宣布已安装全球最先进光刻机】近日，英特尔宣布，已安装了新的TWINSCAN EXE:5200B系统。这是目前全球最先进的光刻机，属于第二代High-NA EUV，将用于Intel 14A制程节点。在ASML的合作下，已完成Intel 14A在英特尔晶圆厂的验收测试，以提高晶圆产量。TWINSCAN EXE:5200B在标准条件下，产量达到了每小时175片晶圆，英特尔计划做进一步调整，提升至每小时200片晶圆以上。新系统还提升了套刻精度，达到了0.7nm，这是建立在英特尔过去一年多对High-NA EUV光刻机使用经验之上。在上周的2025 IEEE IEDM上，英特尔还与imec合作展示了对2DFET材料氧化物帽层，核心创新是选择性凹陷刻蚀。
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