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华为公布最新的专利显示,无需EUV光刻机技术也能实现5nm以下的半导体制造工艺。

华为公布最新的专利显示,无需EUV光刻机技术也能实现5nm以下的半导体制造工艺。现在造芯片也能用邪修了吗?

评论列表

用户10xxx72
用户10xxx72 2
2025-12-02 18:21
估计duv还是要的