#头号创作者激励计划# 清华实验室搞出大动静 咱们自己的EUV光刻材料 终于实现

#头号创作者激励计划# 清华实验室搞出大动静 咱们自己的EUV光刻材料 终于实现关键突破 这可是能让芯片制造卡脖子问题 松口气的大事 就最近这阵子 清华大学化学系的实验室里 许华平教授带着团队 熬了无数个通宵 终于捣鼓出一种新东西 用聚碲氧烷做的光刻胶 为啥非要跟这玩意儿较劲 看看现在用的EUV光刻胶就知道了 不是结构绕得像乱麻 就是成分掺得不均匀 芯片工艺都跑到7nm以下了 老材料早就跟不上趟 他们靠一套新法子 把四大核心指标全兼顾了 现在的芯片做得比头发丝还细 7nm及以下先进工艺中 EUV光刻技术是核心环节 可眼下的光刻胶 不是靠化学放大凑数 就是靠金属敏化团簇撑场面 结果呢 不光结构复杂得头疼 还动不动就出些小缺陷 芯片质量怎么保证 许华平团队换了个路子 他们把碲这种特能“吃”EUV的元素 通过特殊化学键 牢牢安在高分子骨架上 这碲元素就像个高效吸收器 一下子把光刻胶的吸收效率提了一大截 更妙的是 那种化学键特别“懂事” 一碰就断 主链一裂就能显影 灵敏度高得很 最厉害的是 这光刻胶就一种小分子聚起来的 理想光刻胶该有的本事 它一个不落全占了 这成果 已经登上了《科学进展》期刊 半导体行业的专家们听说了 都直拍大腿 说这给光刻材料指了条明路 说不定能把国外的技术垄断 撕开个口子 企业那边也急着打听 盼着这技术能快点走出实验室 变成生产线的真家伙 让咱们国家的半导体产业 能硬气起来 要知道 理想的EUV光刻胶得有四样本事 能多吸 会使劲 分子匀 个头小 以前的材料 不是少这个就是缺那个 很难全占齐 许华平团队从根上改设计 这些老大难问题 总算彻底攻克了 这可不只是材料进步那么简单 对咱们国家半导体产业 能自己说了算 意义大了去了 现在技术突破有了 怎么让这实验室里的好东西 快点跑到工厂的生产线 这步棋该怎么下 大家都来出出主意 #EUV光刻材料新突破 #清华团队硬核成果 #半导体卡脖子破局 #光刻胶技术革新 #中国芯崛起 信源：清华大学官网、《科学进展》期刊