“中国永远都造不出光刻机？”去年，中国物理学教授朱士尧在一次采访中直言：“美国都造不出，中国永远也造不出来！”甚至认为世界上没有一个国家能造出光刻机。 一听到“中国永远都造不出光刻机”这个消息的时候，人们特别愤怒，谁敢这样保证我们造不出来？以后的事情谁能说的清楚？ 仔细想想，中国这些年在科技领域的突破还少吗？从高铁到5G，从航天到量子通信，哪样不是从被卡脖子到后来居上？怎么到了光刻机这儿就成了死局？ 首先得弄明白光刻机到底难在哪儿。这玩意儿就像给芯片“拍照”的超级相机，镜头精度要达到纳米级，光源、光学系统、精密机械缺一不可。 尤其是EUV光刻机，用的是波长13.5纳米的极紫外光，技术复杂度直接拉满。荷兰ASML能垄断全球高端市场，靠的是整合了全球5000多家供应商的顶尖技术，美国Cymer的光源、德国蔡司的镜头、日本的精密机械，少了任何一环都玩不转。 但问题来了，美国真的造不出光刻机吗？其实ASML背后有美国资本和技术的影子，只是没挂美国牌子而已。 朱教授这话，说白了是把ASML的成功等同于美国的技术实力，忽略了全球化产业链的本质。而中国要突破光刻机，靠的不是复制ASML的老路，而是另辟蹊径。 你看，中国在成熟制程光刻机上早就有了突破。早在上世纪60年代，咱们就造出了接触式光刻机，后来上海微电子接手后，一步步把DUV光刻机做到了65nm水平。 封装光刻机更是占据全球80%的市场，逼得国际巨头降价。这些都是实打实的成绩，说明中国不是从零开始。 再看顶尖技术，中科院上海光机所去年搞出了固体激光驱动的EUV光源，转换效率超过荷兰和瑞士的团队，直逼美国纪录。 这意味着我们绕过了二氧化碳激光的专利壁垒，开辟了新赛道。哈工大那边也攻克了激光干涉仪技术，为EUV光刻机的精密定位打下基础。这些突破就像搭积木，虽然还没拼成完整的光刻机，但核心部件已经有了。 国家政策更是没闲着。大基金三期砸了3000亿重点支持光刻机研发，从光源、光学晶体到靶材材料，上下游产业链都在加速国产化。科益虹源的光源、福晶科技的光学晶体、有研新材的靶材，这些企业已经实现了关键材料的自主可控。 上海微电子作为整机集成的龙头，EUV原型机去年通过验收，光源功率接近商用水平。 有人可能会说，就算技术突破了，国际封锁怎么办？美国不让ASML卖EUV给中国，还施压荷兰吊销许可证。但反过来想，这种封锁反而倒逼中国加速自主研发。 荷兰专家马克・海金克就说，美国的限制是中国工程师最好的动力，逼着我们走出了自己的技术路线。比如中芯国际用DUV多重曝光技术造出了10nm芯片，验证了国产设备的可靠性。 还有三条新赛道值得关注：量子芯片、芯粒技术、异构计算。这些技术绕过了传统光刻机的限制，用新方法实现算力突破。 “祖冲之三号”量子芯片的运算能力已经让人眼前一亮，北极雄芯的车载芯粒系统也在降低对先进工艺的依赖。说白了，就算顶级光刻机暂时造不出来，我们也能通过其他途径实现技术跨越。 当然，挑战还是有的。光刻机是集大成的系统工程，从实验室到量产需要时间，国际合作也必不可少。 但看看中国这些年在科技领域的爆发力，从0到1的突破还少吗？高铁刚引进时被嘲笑是“组装厂”，现在连技术标准都输出到国外；5G从跟跑到领跑，靠的就是持续投入和自主创新。光刻机这条路虽然难，但中国有的是耐心和韧性。 最后想问一句：当年钱学森回国搞导弹时，西方也说“中国永远造不出来”，结果呢？今天的中国，连空间站都建起来了。 你觉得，在光刻机领域，中国真的会永远落后吗？
