咱们的极紫外光刻胶,历尽艰难终于給干成了。不仅可以造7nm以下的芯片,还绕开了所
咱们的极紫外光刻胶,历尽艰难终于給干成了。不仅可以造7nm以下的芯片,还绕开了所有的国外专利,性能甚至比国际巨头的产品更能打。中国半导体企业有了自己翻盘的底气。要知道光刻胶这个东西,是非常的金贵,大家可以把它理解...
【极紫外光刻】新闻资讯
咱们的极紫外光刻胶,历尽艰难终于給干成了。不仅可以造7nm以下的芯片,还绕开了所有的国外专利,性能甚至比国际巨头的产品更能打。中国半导体企业有了自己翻盘的底气。要知道光刻胶这个东西,是非常的金贵,大家可以把它理解...
光刻胶材料:中科院化学所、北京科华微电子等联合承担的“极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”项目,完成了EUV光刻胶关键材料设计、制备及工艺研发。集中资源搞大项目、啃硬骨头,一直是我们举国体制的最大优势,相信中国2...
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