国产刻蚀机重大突破!中微3nm设备量产在即,2026Q2实锤交付台积电
国产设备龙头中微公司官方确认，旗下3nm级刻蚀机已完成工艺验证，精度突破0.03nm（原子级加工水准），单台产能比泛林半导体竞品高35%，正式启动量产筹备，2026年第二季度将批量交付台积电南京产线。消息一出行业震动：“国产刻...
标签: 刻蚀机
光刻胶，刻蚀机，5纳米是一道分水岭。光刻胶，目前江苏的技术是全国领先的。网络上能
光刻胶，刻蚀机，5纳米是一道分水岭。光刻胶，目前江苏的技术是全国领先的。网络上能看到的，只代表过去。从最新的动态来看，或许某一两家公司在相关技术上已取得突破。平时多关注一些地方讯息，对投资有帮助。
国产芯片设备突围:刻蚀机已达3nm,光刻机仍需追赶
其中光刻、刻蚀、薄膜沉积三个环节最关键，分别对应光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备这三大核心设备。光刻在最前头，用光在硅晶圆上"画"出电路图案；刻蚀接着按图案"雕刻"下层材料，构建电路结构；薄膜沉积则是在硅片上"铺"材料，...
100%自主可控,中国最强刻蚀机厂商,已搞定了3nm工艺
其中比较核心的有光刻、刻蚀、薄膜沉积，这三个步骤，都对应着不同的设备，比如光刻机、刻蚀机，薄膜沉积设备等。光刻在最前面，用光在硅晶圆上形成电路图案模版，刻蚀环节则根据这一模版对下层材料进行选择性去除，以构建出...