ASML对中国市场一向十分重视，在西方修改限制规则的时候，ASML多次表态这么做会导致全球供应链中断，劝诫美国能够回头。不仅如此，在中国高层举办的经济复苏论坛峰会期间，ASML总裁彼得·温宁克时隔六年访华，与中国高层会面交流。然而彼得·温宁克转了一圈也算看明白了，高端芯片没戏。

美国掌握半导体行业尖端技术，许多开创性的芯片工艺均来源于美国。所以当美国凭借技术优势修改芯片规则时，许多国家供应商都得遵守规则。只要使用了美国技术，就在限制范围内，想要正常出货就要获得美国的许可。就像ASML的EUV光刻机使用了美国大量的光源设备，技术占比高达30%。EUV光刻机是生产高端芯片的必要设备，虽然使用高端DUV光刻机多重曝光，也有望量产出7nm芯片。可DUV光刻机也要被限制了，荷兰已加入美国阵营达成协议，高端DUV光刻机将无法正常出货。

只有1980Di及以下的型号不受影响，可这类型号的光刻机一般用于14nm及以上制程，量产7nm很难。强制进行多重曝光的话，不仅成本高，而且良率低，有限的分辨率很难推进高端芯片制造。所以最好的选择依然是EUV光刻机，在13.5nm波长下使用极紫外光，超高的分辨率和精度可顺利推进7nm及以下工艺。但EUV光刻机的出货状态不用多说了，要是ASML能出货的话恐怕早就出货了。值得一提的是，ASML总裁彼得•温宁克时隔六年访华，在3月底参与中国高层举办的经济复苏论坛峰会。彼得•温宁克和中国高层会面交流，中国方面表示，愿为ASML提供良好的营商环境，希望ASML坚定对华贸易投资合作信心。中国的表态为ASML 释放出良好的信号，会保持市场开放，给ASML提供贸易机会。而站在ASML的角度，自然也不想失去中国市场。中国是全球最大的半导体市场，2021年中国大陆半导体销售额高达296.2亿美元，同比增长58%，排名全球第一。

美日荷三方达成协议不利于ASML开展市场布局，为避免影响中国客户的合作，ASML特意强调并不是所有的DUV光刻机都会被限制，依然能满足客户在成熟制程方面的需求。说到底ASML 也绕不开市场规则，只能在条件允许的范围内出货。ASML总裁彼得•温宁克转了一圈也算看明白了，高端芯片没戏。在访华期间，彼得•温宁克并没有交流EUV光刻机的出货情况，尽管保持开放合作的意愿，却也是建立在规则许可范围内的。

所以把获得EUV光刻机的希望寄托在ASML身上是不现实的，突破高端芯片，掌握先进制程产业链，还是得靠自己。中国工程院院士倪光南早就说过，核心技术是买不来，换不来的。这句话放在任何一个科技研发项目上都适用，尤其是光刻机设备。顶级光刻机内含10万个零部件，全球5000多家供应商参与其中，不是一朝一夕就能掌握的。ASML掌握了EUV光刻机量产技术，就算把技术图纸公开了，也未必能组装出EUV光刻机，因为整合如此庞大的产业链也是个巨大挑战。但国产光刻机并不会就此放弃，上海微电子是国内唯一的IC晶圆制造光刻机厂商。官方公布的数据是可实现90nm芯片量产，但并不意味着没有开展更先进的技术研究。

如果能攻克193nm波长的浸润式ArF光刻机技术，那么有望实现55nm，28nm国产芯片的破冰。先从成熟制程工艺做起，再一步步聚焦更先进的工艺，当国产光刻机产业链足够成熟时，汇聚大量的人才，核心技术和产业链资源，或许突破高端工艺也是有可能的。当然，现阶段需要做的就是保持开放合作，在能够合作的范围内维持光刻机进口，与此同时加紧自研技术研发。打破买办思想，摒弃“造不如买”的理念，坚持自研不放弃。ASML担心限制出货会加速中国自研光刻机，比尔盖茨也表示美国永远不可能阻止中国拥有强大芯片。这些都意味着中国不会停止步伐，光刻机的研发也不例外。现在不代表将来，期待将来的国产光刻机产业能带来更多的惊喜