“中国永远都造不出光刻机？”去年，中国物理学教授朱士尧在一次采访中直言：“美国都造不出，中国永远也造不出来！”甚至认为世界上没有一个国家能造出光刻机。 朱教授这话，放在十年前说还能唬唬人，毕竟那时候咱根本就不知道光刻机是啥东西。可现在，这话早就过时了——咱们国家不仅造出了光刻机，还不止一种型号，连美国佬都得瞪大眼睛瞧着！ 咱先把话撂这儿：光刻机这玩意儿确实难，难到啥程度？打个比方，您见过头发丝儿吧？光刻机刻出来的电路线宽比头发丝儿细几千倍！荷兰ASML那台EUV光刻机，光零件就有十万多个，全球5000多家供应商凑出来的，连美国都得乖乖排队买。 可咱中国人是谁啊？当年连原子弹都能从无到有，还能让这小小的光刻机给难住？ 您还别不信，上海微电子（SMEE）早在2002年就憋着一股劲儿搞研发，现在人家的SSA800系列光刻机都已经能量产90nm和28nm的芯片了！啥概念？您现在用的智能卡、物联网设备，说不定就是用咱自家的光刻机造出来的。2024年更不得了，人家直接推出了65nm干式DUV光刻机，套刻精度达到8nm，这精度啥水平？就跟用绣花针在米粒上刻《兰亭序》似的，稳准狠！工信部都把这机器列入《首台（套）重大技术装备推广目录》了，明摆着告诉全世界：咱中国造的光刻机，靠谱！ 有人说了，90nm、28nm算啥？人家ASML都能造5nm、3nm的EUV光刻机了。您别急啊，饭要一口一口吃，路要一步一步走。咱先把成熟制程吃透，再慢慢往上爬。就说封装光刻机吧，咱都把全球80%的市场给占了，连ASML都得降价求生存。这就跟打擂台似的，咱先在中低端市场站稳脚跟，再跟你掰手腕！ 再说EUV光刻机，咱也没闲着。清华大学搞出个SSMB-EUV光源方案，原理是用激光操控电子束，直接把光源功率干到国际领先水平。中科院上海光机所更厉害，2025年直接开发出LPP-EUV光源，转化效率都超过荷兰和瑞士的团队了。 您可能又要问了，光有技术没市场咋整？咱中国可是全球最大的芯片消费市场，一年进口芯片花的钱比买石油还多。中芯国际、华虹半导体这些大厂，早就把国产光刻机搬上生产线了。北京燕东微电子直接砸2个亿采购上海微电子的光刻机，用来生产8英寸芯片。华为的麒麟9010芯片，拆机一看，套刻标志跟进口设备不一样，大概率就是用咱自家的光刻机造的。 有人又说了，光刻机产业链那么长，光整机厂厉害有啥用？您还真说到点子上了。咱国家在光刻机上游材料和零部件上也没闲着。科益虹源搞定了光源，福晶科技做出了激光晶体，华特气体拿下了光刻气体，茂莱光学、波长光电这些企业连光刻机镜头都能量产了，你自己说，到底有用没用！ 更绝的是，咱还开辟了新赛道。光子芯片、二维晶体管这些新技术，直接绕过EUV光刻机。中科院、上海交大的光子芯片，传输速度是电子芯片的千倍，华为、清华的二维晶体管，速度比3nm硅芯片还快40%。这就跟打仗似的，正面打不过，咱就迂回包抄，照样能赢！ 现在回头看看朱教授的话，简直就跟刻舟求剑似的。十年前咱确实落后，但现在呢？咱不仅能造光刻机，还能造多种型号；不仅能满足国内需求，还能出口到海外；不仅能在成熟制程称王，还能在先进技术上突破。您说气人不气人？ 当然啦，咱也得承认，在最顶尖的EUV光刻机上，咱跟ASML还有差距。但这差距就跟马拉松赛跑似的，咱已经从最后一名追到中间了，还怕追不上？再说了，全世界就咱中国还在玩命研发顶尖光刻机，其他国家都躺平了。等咱把EUV光刻机造出来，他们就得反过来求咱！ 所以啊，那些说“中国永远造不出光刻机”的人，要么是井底之蛙，要么是别有用心。咱中国人啥时候怕过难？当年勒紧裤腰带造原子弹，现在砸锅卖铁也要搞光刻机。咱不仅要造，还要造得比别人好，造得让全世界都服气！ 您就擎好吧，用不了多久，咱中国的光刻机就能在国际舞台上大放异彩，到时候让那些唱衰的人都把嘴闭上！
