EUV光源难题，中国找到突破口了！想限制中国发展可没那么简单
“工业皇冠”上的璀璨明珠，正逐渐被中国收入囊中！在西方媒体的一贯说法里，中国似乎在众多领域都容易遭遇“卡脖子”困境，大到航母、五代战机、发动机，小到液晶屏幕、芯片等，仿佛随时会被国外技术制约。然而事实却是，那些曾被西方吹嘘为难以逾越“壁垒”的技术，正被中国科研人员一一攻克。据环球时报最新消息，此前被阿斯麦尔技术封锁的高精度芯片制造关键——EUV光源技术，再次被中国成功破解。
中国科学院上海光机所的科研团队另辟蹊径，绕开阿斯麦尔专利的二氧化碳激光技术，通过固体激光器成功研发出EUV光源。
这些专业术语听起来或许有些晦涩难懂？通俗来讲，如今手机里的高精度芯片，需要借助先进光刻机进行制造。而光刻机在蚀刻电路、生产微型电路（即高精度芯片）时，需要激发出极紫外（EUV）激光光源。目前，能够生产激发EUV光源光刻机的厂商仅有阿斯麦尔等极少数企业。这些凭借技术先发优势的厂商，依靠专利与技术壁垒形成垄断局面，试图以此限制中国在相关领域的发展。
而中国科研人员独辟新径，既然对方采用二氧化碳激光技术，我们就运用固体材料激光。尽管现阶段，中国在该技术上的良品率与成熟的阿斯麦尔技术相比仍存在差距，但我们拥有充足时间不断改进完善。阿斯麦尔不是拒绝向中国出售相关设备和技术吗？等你想卖的时候，中国或许早已不再需要！
