中国芯片落后最先进国家多少年？ 最近，荷兰阿斯麦公司总裁说，中国光刻机落后世界先进水平10—15年。 那真实的情况是这样吗？ 事实上，这个论断或者观点是夸张的。 第一，中国光刻机目前已经具备8纳米技术的量产水平，和世界普通芯片生产力。领域的水平是持平或略微落后的。 第二，中国光刻机和世界先进水平的差距是存在的，但应该不是15年，应该在5—10年的这个水平。 第三，中国芯片研发和制造水平和世界先进水平只有2—5年的差距。特别是华为的高端芯片研发是世界领先水平，制造目前是保密的。 按照当前的发展趋势，不出5年，中国在高端光刻机和高端芯片的研发和制造上绝对会领先的。
