固定式锗烷检测仪报警器-半导体制造中GeH4气体泄漏精准监测方案

在半导体制造业，高纯锗制备、硅锗薄膜材料生产、异质结晶体管（HBT）及集成电路制造过程中，锗烷（GeH4）气体的应用极为关键，但其泄漏风险也不容忽视。因此，一套精准高效的GeH4气体泄漏监测方案至关重要。

检测原理

目前，GeH4气体检测仪主要采用电化学、红外、催化燃烧、热导、PID光离子等原理。以电化学原理为例，它通过检测GeH4气体在电极上发生的氧化还原反应产生的电流来确定气体浓度。这种原理的检测仪具有高灵敏度和良好的选择性，能够准确识别GeH4气体。

产品特点

以ERUN-PG51SG3固定式锗烷检测仪为例，它采用2.5寸高清彩屏实时显示浓度，可根据不同气体选用行业内优质品牌的传感器。其坚固耐用的防爆外壳和氟碳漆表面处理工艺，使其适用于各种危险场所和强酸强碱的腐蚀性环境。此外，该检测仪还具备本安电路设计、防爆认证、二级防雷、防静电等特性，抗高强度脉冲浪涌电流冲击能力强，可靠性高。

系统功能

该监测系统可实现24小时连续在线监测GeH4气体浓度及温湿度。当检测到气体浓度超标时，会立即触发声光报警，并可通过远程数据传输功能，将数据实时传输到控制中心或相关人员的移动设备上。系统还能与PLC、DCS等控制系统兼容，实现远程监视和自动化控制。

解决方案

在高纯锗制备车间，应在反应釜、管道接口等关键位置安装固定式检测仪，实时监测GeH4气体泄漏情况。对于硅锗薄膜材料生产区域，由于设备较多、空间复杂，可采用组合式监测方案，即在重点设备周围安装固定式检测仪，同时配备便携式检测仪进行巡检。在异质结晶体管（HBT）及集成电路制造车间，由于对环境要求极高，需安装高精度的检测仪，并设置多级报警，以便在气体浓度微小变化时及时发现。

选点和安装注意要求

检测仪应安装在GeH4气体易泄漏的区域，如管道连接处、阀门附近等。安装高度应根据气体的密度和泄漏点位置确定，一般安装在距地面1.5-2米处。在安装过程中，要确保检测仪的进气口畅通，避免被灰尘、杂物堵塞。同时，要远离强电磁场和高温区域，以免影响检测仪的性能。

执行标准

该检测仪符合EMI、EMC标准，通过国标测试及CMC计量器具许可认证。在使用过程中，应严格按照相关标准进行操作和维护，确保检测结果的准确性和可靠性。