光刻机里程碑,工信部推广国产DUV光刻机:套刻≤8nm!(这也是假期发酵多的一个热点)
按套刻精度与量产工艺约1:3的关系,这个光刻机大概可以量产28nm工艺的芯片,大致相当于20年前ASML的1460K。
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