光刻机（胶）概念强势尽显，今年业绩普遍向好！ 一、光刻机（胶）板块涨停板人气龙

光刻机（胶）概念强势尽显，今年业绩普遍向好！ 一、光刻机（胶）板块涨停板人气龙头：京华激光、东方嘉盛、蓝英装备、凯美特气、芯源微、同飞股份、双乐股份。 二、板块逻辑解析： 美国考虑采取更严格措施施压日本荷兰，限制与中国芯片贸易。正是该消息的刺激，让相关国产替代题材股逆势逞强。 光刻机（又称曝光机）是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础。光刻过程可大致分为涂胶、曝光、显影、刻蚀、清洗等步骤。 光刻机和光刻胶，是芯片光刻过程中最重要的两样东西，一个是设备，一个是耗材，其性能直接决定着芯片制造的精度和质量。技术门槛在芯片板块中也是最高的，结果就是行业的高度垄断性。光刻机方面，高端光刻机ASML一家独大，中低端光刻机也只多了日本尼康、佳能、上海微电子三个对手。 据预测，全球光刻机市场规模预计在2024年将达到295.7亿美元，阿斯麦、尼康、佳能等三大供应商占据了巨大多数市场份额，尤其是在高端市场，阿斯麦基本处于垄断地位‌。另外，在半导体光刻胶市场则基本被日本企业垄断。市场前五的企业中，东京应化、陶氏化学、JSR和住友化学均为日本企业。目前，国内8英寸和12英寸晶圆制造产线中使用的先进光刻胶仍有90%以上依赖进口。 光刻机，是半导体芯片产业链上，金字塔顶端的存在。虽然近几年，咱们也在奋起直追，但和国际仍有一定的差距。而相比之下，光刻机配套的关键材料-光刻胶，咱们和国际的水平差距就要小得多了。在美日荷联合制裁中国内地半导体制造产业链后，国产先进制程用光刻胶的国产化已取得较大进展，在g/I线和KrF光刻胶中已能实现一定替代；而ArF光刻胶逐步取得核心突破，国产化前景光明。 日前，复旦大学高分子科学系、聚合物分子工程国家重点实验室魏大程团队设计了一种功能型光刻胶，利用光刻技术在全画幅尺寸芯片上集成了2700万个有机晶体管并实现了互连，集成度达到特大规模集成度水平。 2024年7月4日，该成果以《基于光伏纳米单元的高性能大规模集成有机光电晶体管》为题发表于《自然·纳米技术》。 据SEMI统计，全球半导体光刻胶市场规模达24.71亿美元，2015-2021年复合增长率（CAGR）为12.03%，中国市场的增速大约是全球市场的两倍。国内厂商主要集中于技术难度较低的PCB光刻胶领域。国内半导体光刻胶市场，仅有少数几家：彤程新材、南大光电、晶瑞电材、上海新阳、容大感光、华懋科技等。 光刻机（胶）概念股今年业绩普遍向好。其中，广信材料机构一致预测今年净利增速超12倍居首。晶瑞电材、飞凯材料机构一致预测今年净利增速超两倍，晶方科技、腾景科技、雅克科技、波长光电今年预计增速均超50%。 （一家之言仅供参考）