中国采用多次曝光堆叠技术生产出来5nm芯片，解决了5nm芯片的零突破，也只是解决了有的问题，吃不饱，饿肚子还是一个严重问题。但他为我们后继工作打下了基础，一旦我们的EUV光刻机量产，良品率和加工技术的升级，都水到渠成，成本也会快速下降，甚至第一次产出成本就会比台积电低很多，这是可预料的。
中国采用多次曝光堆叠技术生产出来5nm芯片，解决了5nm芯片的零突破，也只是解决了有的问题，吃不饱，饿肚子还是一个严重问题。但他为我们后继工作打下了基础，一旦我们的EUV光刻机量产，良品率和加工技术的升级，都水到渠成，成本也会快速下降，甚至第一次产出成本就会比台积电低很多，这是可预料的。
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