中国何时能在光刻机领域赶超阿斯麦，备受关注。当前，中国正全力投入光刻机自主研发，力求突破技术瓶颈。虽与阿斯麦存在差距，但中国科研力量雄厚，政策大力支持，发展势头迅猛。在自主创新的道路上，中国不断取得新进展。凭借坚定的决心和不懈的努力，中国光刻机技术正稳步提升。相信在不久的将来，中国定能在光刻机领域实现赶超，在全球高科技竞争中占据一席之地。光刻芯片